特許
J-GLOBAL ID：200903089421823380
欠陥検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-233820
公開番号（公開出願番号）：特開平6-082374
出願日： 1992年09月01日
公開日（公表日）： 1994年03月22日
要約：
【要約】【目的】 ペリクルの表面及び裏面の異物等の欠陥の検査時間を短縮する。【構成】 ペリクルに光を照射した際にペリクルから得られる光を検出して、ペリクル上に存在する欠陥(異物等)を検出すると共にこの検出された欠陥の大きさを判別し(ステップ102〜104)、検出された欠陥の大きさが所定の範囲内であるときに、検出された欠陥がペリクルの表面又は裏面の何れに存在するのかを検出する(ステップ105)。
請求項（抜粋）：
基板に対して枠を介して張設された光透過性の薄膜状の被検物の表面及び裏面に存在する欠陥を検査する方法において、前記被検物に光を照射した際に前記被検物から得られる光を検出して、前記被検物の表面又は裏面に存在する欠陥を検出すると共に該検出された欠陥の大きさを判別し、該検出された欠陥が所定の大きさよりも小さいときに、該検出された欠陥が前記被検物の表面又は裏面の何れに存在するのかを検出する事を特徴とする欠陥検査方法。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G01B 11/30
, H01L 21/66
