特許
J-GLOBAL ID：200903089422966818
塗布装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-320858
公開番号（公開出願番号）：特開平6-168871
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：
【要約】【目的】 基板外周部の温度低下の影響によって、基板表面で形成されるレジスト膜の不均一をなくす。【構成】 回転テーブルと基板に囲まれる非接触空間4に送気管5から気体(窒素ガス,ヘリウム等)を送気し、前記部分を陽圧にすることにより、レジストの基板1への裏面回り込みを防止しながら、基板の表面にホトレジスト膜を形成させる。このとき、回転テーブル2上部に設けた温度センサー6は、非接触空間4の温度を監視し、温度制御回路7により、所定の設定温度になるよう温調器8を制御する。温調器8により温度制御された気体は送気管5を介して、非接触空間4に送気される。この気体の温度制御によって、基板の温度分布は均一となる。従って、基板表面のホトレジスト膜形成時に膜厚を均一にすることができる。
請求項（抜粋）：
回転テーブルと、送気管と、温調部とを有し、回転テーブル上の基板表面に塗布液を滴下し、基板を回転させて遠心力により基板表面に塗布液を塗布する塗布装置であって、回転テーブルは、基板裏面を真空吸着する支持部と、基板裏面と回転テーブルとにより取囲まれた非接触空間とを有するものであり、送気管は、回転テーブルの非接触空間内に気体を送り込み、該非接触空間内を陽圧にして、基板裏面への塗布液の廻り込みを阻止するものであり、温調部は、非接触空間内の温度をセンサーで監視し、その検知出力に基づいて温調された気体を送気管に供給するものであることを特徴とする塗布装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B05C 11/08
, G03F 7/16 502
