特許

J-GLOBAL ID：200903089427228360

光源装置

発明者： 直江 康弘
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-334880
公開番号（公開出願番号）：特開平11-153746
出願日： 1997年11月20日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：

【要約】【課題】 高精度なビームピッチが維持でき、なおかつ、ケースを安価な樹脂成形部品で構成することが可能な光源装置を提供する。【解決手段】 複数の半導体レーザ2,2と、これらの半導体レーザを固定するベース1と、各半導体レーザの前面に設けられたコリメータレンズ3,3と、コリメータレンズより出射されるレーザビームを整形するアパーチャ26aと、上記レーザビームを近接したレーザビーム10,10にするビーム合成用光学素子5と、これらコリメータレンズとビーム合成用光学素子を覆うために上記ベースに取り付けられるケース9とを有する光源装置において、上記アパーチャを形成するアパーチャ形成部材26を光学素子支持部23に一体的に形成した。

請求項（抜粋）：

複数の半導体レーザと、これらの半導体レーザを固定するベースと、該ベースに固定され各半導体レーザの前面に設けられたコリメータレンズと、該コリメータレンズより出射されるレーザビームを整形するアパーチャと、上記コリメータレンズから出射されるレーザビームを近接したビームにするビーム合成用光学素子と、これらコリメータレンズとビーム合成用光学素子を覆うために上記ベースに取り付けられるケースとを有する光源装置において、上記アパーチャを形成するアパーチャ形成部材を上記ベース側に一体的に形成したことを特徴とする光源装置。

IPC (3件)：

G02B 7/02 ,  B41J 2/44 ,  G02B 7/18

FI (3件)：

G02B 7/02 H ,  B41J 3/00 D ,  G02B 7/18 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 走査光学装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-025576   出願人：株式会社リコー
• マルチビーム走査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-194526   出願人：株式会社リコー