特許

J-GLOBAL ID：200903089427303280

複合酸化物薄膜の形成方法

発明者： 安部 良夫 ,  浜地 幸生 ,  坂部 行雄
出願人/特許権者： 株式会社村田製作所
代理人 (1件)： 西澤 均
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-255671
公開番号（公開出願番号）：特開平5-058635
出願日： 1991年09月06日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：

【要約】【目的】 煩雑な工程によることなく、また、基材を構成する材料の種類や基材の形状に制約されることなく、基材の表面に、均一で緻密なチタンと鉛の複合酸化物薄膜を形成する。【構成】 鉛イオン、六フッ化チタン酸イオン及びホウ酸イオンを含有する水溶液に基材を浸漬することにより、該基材の表面にチタンと鉛の複合酸化物薄膜を形成する。水溶液中の、鉛イオン、六フッ化チタン酸イオン,及びホウ酸イオンの濃度は、Pb2+,TiF62-,BO32-に換算して、Pb2+ :0.01〜1000mM/lTiF62-:0.01〜 500mM/lBO32- :0.03〜3000mM/lの範囲とする。

請求項（抜粋）：

鉛イオン、六フッ化チタン酸イオン及びホウ酸イオンを含有する水溶液に基材を浸漬することにより、該基材の表面にチタンと鉛の複合酸化物薄膜を形成することを特徴とする複合酸化物薄膜の形成方法。

IPC (3件)：

C01G 23/00 ,  H01B 3/00 ,  H01B 19/00 321