電子線描画装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-003944
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204400
出願日： 1998年01月12日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：

【要約】【課題】従来の電子線描画装置では、汚れたレジスト表面に電子線を照射した場合、単位面積あたりの電子線照射量を一定にしてもレジストの感光状態にばらつきが発生したり、表面付着物質によっては電子線の散乱などを発生させ描画パターン精度に影響を与えるという問題点がある。また、固体表面には炭素(C)を中心としたコンタミネーションが付着し、その後の現像、エッチング、アッシングなどの工程に悪影響を及ぼすこととなる。【解決手段】感応基板5への電子線による露光のための露光部を備えたチャンバ19を有する電子線描画装置において、チャンバ19内に感応基板5へ照射するためのイオンを発生させるイオン発生手段8,8a、8bを設ける。

請求項（抜粋）：

感応基板への電子線による露光のための露光部を備えたチャンバを有する電子線描画装置において、前記チャンバ内に前記感応基板へ照射するためのイオンを発生させるイオン発生手段を設けた事を特徴とする電子線描画装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 506 , H01J 37/20 , H01J 37/305

FI (6件)：

H01L 21/30 541 B , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 506 , H01J 37/20 H , H01J 37/305 B , H01L 21/30 551

前のページに戻る