特許

J-GLOBAL ID：200903089441030750

基板搬送制御方法

発明者： 吉田 安志
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 守山 辰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-220857
公開番号（公開出願番号）：特開平11-054590
出願日： 1997年08月01日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】 成膜室での所定の処理に要する時間を考慮した上で、基板を搬送することができる時間間隔を設定して、搬送装置による搬送処理を支障なく実施し、更に、搬送途中の基板が意図しない状態で停滞してしまうことを回避して、基板の熱履歴による品質低下を防止する。【解決手段】 同一の処理を行う成膜室R1、R2を備えて、これら処理室群に対する基板の搬送を同一の搬送装置T3によって行う装置において、成膜室での成膜処理を行うに要する時間を当該処理室群に含まれる処理室数で割算し、この結果の内から最大値の時間をタクトタイムに設定し、当該タクトタイムに従った時間間隔で基板を搬送する。また、タクトタイムに従った時間間隔で処理室毎の基板搬送を行わせ、更に、当該基板搬送に際して、一の処理室R1での処理が終了した後に所定の待機時間Wをもって当該処理室からの基板搬出を実行させ、他の処理室R2に対する基板搬送が終了した後に当該一の処理室R1からの基板搬出が行われるようにした。

請求項（抜粋）：

同一の処理を並列的に行う処理室を複数個備えて、当該処理室群に対する基板の搬送を同一の搬送装置によって行う基板処理装置に対して、処理室での基板処理及び当該処理室に対する基板の搬送を行うための時間を当該処理室群に含まれる処理室数で割り算し、この結果の内で最大値となる時間以上の時間をタクトタイムに設定し、当該タクトタイムに従った時間間隔で搬送装置によって基板を搬送することを特徴とする基板搬送制御方法。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  C23C 16/44 ,  C23C 16/54 ,  H01L 21/02

FI (4件)：

H01L 21/68 A ,  C23C 16/44 F ,  C23C 16/54 ,  H01L 21/02 Z