表示装置用アレイ基板の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：外川英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-189003
公開番号（公開出願番号）：特開平10-031230
出願日： 1996年07月18日
公開日（公表日）： 1998年02月03日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】高精度な露光技術が用いられるにもかかわらず、製造時間あるいは部材コストの増大が抑えられる表示装置用アレイ基板の製造方法を提供する。【解決手段】複数の画素電極が配列された表示領域、その外側に配置される周辺領域、その外側に配置されるマーク領域を含む表示装置用アレイ基板の製造方法で、絶縁基板41上に第1の層を配置する工程と、第1の層上にレジストを配置する工程と、絶縁基板(41)を複数の領域に分割し、各領域を対応するマスクパターンを用いて露光しパターニングする工程と、第1の層上に第2の層を配置する工程と、第2の層上にレジストを配置する工程と、絶縁基板(41)のマーク領域を除いた領域を複数の領域に分割し、各領域を対応するマスクパターンを用いて露光しパターニングする工程とからなる。

請求項（抜粋）：

絶縁基板の一主表面上に複数の画素電極が配列された表示領域、前記表示領域の外側に配置され前記表示領域に駆動電圧を供給するための周辺領域、前記周辺領域の外側に配置されるマーク領域を含む表示装置用アレイ基板の製造方法において、絶縁基板の一主表面上に第1の層を配置する工程と、前記第1の層上にレジストを配置する工程と、前記絶縁基板の前記一主表面を複数の領域に分割し、各領域を対応するマスクパターンを用いて露光し、これに基づいてパターニングする工程と、前記第1の層上に第2の層を配置する工程と、前記第2の層上にレジストを配置する工程と、少なくとも前記マーク領域を除く領域を複数に分割し、各領域を対応するマスクパターンを用いて露光し、これに基づいてパターニングする工程と、を備えたことを特徴とする表示装置用アレイ基板の製造方法。

IPC (2件)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1343

FI (2件)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1343

引用特許：

審査官引用 (5件)

露光方法及びレチクル
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-099324 出願人：株式会社ニコン
特開平4-077715
特開昭61-226924

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