特許
J-GLOBAL ID：200903089445533609
成膜装置及び成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大岩 増雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-013193
公開番号（公開出願番号）：特開平8-199345
出願日： 1995年01月30日
公開日（公表日）： 1996年08月06日
要約：
【要約】【目的】 蒸着物発生源9から直接被蒸着体16に蒸着体28を成膜できない場合にも、被蒸着部に成膜することができる成膜装置を提供する。【構成】 真空室1内に設けられた蒸着体発生源9から出射された蒸着体28が、加熱可能に構成された反射体29により、被蒸着体16の被蒸着部に向けて反射され、被蒸着部16に成膜されるものである。
請求項（抜粋）：
所定の真空度に保持された真空室と、この真空室内に蒸着体を出射させるか、または蒸着体を所定の方向に出射させる蒸着体発生源と、この蒸着体発生源から出射された蒸着体を被蒸着部に向けて反射させるとともに、加熱可能に構成された反射体とを備えたことを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
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