特許
J-GLOBAL ID:200903089457334296

インジウム・スズ酸化物膜用ターゲット

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大場 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-044915
公開番号(公開出願番号):特開平8-218165
出願日: 1995年02月09日
公開日(公表日): 1996年08月27日
要約:
【要約】【目的】 本発明は、突起の形成メカニズムを詳細に検討することにより、安定した寿命を有し、かつ長寿命のインジウム・スズ酸化物膜用ターゲットを提供することを目的とする。また、前記目的に加えてスパッタリング中の成膜速度やスパッタ電圧の変化等の成膜条件の不安定化が発生することなく品質の高いITO膜を安定して得ることのできるインジウム・スズ酸化物膜用ターゲットを提供することを目的とする。【構成】 実質的にインジウム、スズおよび酸素からなる焼結体であり、単位面積当たりに存在する直径3μm以上の気孔数が2500個/mm2〜20000個/mm2であるインジウム・スズ酸化物膜用ターゲット。
請求項(抜粋):
実質的にインジウム、スズおよび酸素からなる焼結体であり、単位面積当たりに存在する直径3μm以上の気孔数が2500個/mm2〜20000個/mm2であることを特徴とするインジウム・スズ酸化物膜用ターゲット。
IPC (7件):
C23C 14/34 ,  B22F 3/11 ,  C01G 19/00 ,  C22C 1/05 ,  C23C 14/08 ,  G02F 1/1343 ,  H01B 13/00 503
FI (7件):
C23C 14/34 A ,  C01G 19/00 A ,  C22C 1/05 J ,  C23C 14/08 D ,  G02F 1/1343 ,  H01B 13/00 503 Z ,  B22F 5/00 101

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