特許
J-GLOBAL ID：200903089460211014

ヨウ素化合物と半導体光触媒による水素及び酸素の製造方法

発明者：
佐山 和弘

佐山 和弘 について

, 
荒川 裕則

荒川 裕則 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-303589
公開番号（公開出願番号）：特開2005-068007
出願日： 2004年10月18日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：
【課題】半導体光触媒の存在下に光照射を行って、水から水素と酸素を製造するに際し、効率よく、中性や塩基性条件下であっても、又、可視光を利用することができる新たなレドックスを用いる製造方法の提供。【解決手段】)半導体光触媒及び還元状態から酸化状態に変化させることができるヨウ素化合物を含む水溶液に、光照射を行って水素を製造する工程、及び半導体光触媒及び酸化状態から還元状態に変化させることができるヨウ素化合物を含む水溶液に、光照射を行って酸素を製造する工程からなることを特徴とする水素及び酸素の製造方法。【選択図面】 なし
請求項（抜粋）：
半導体光触媒及び還元状態から酸化状態に変化させることができるヨウ素化合物を含む水溶液に、光照射を行って水素を製造する工程、及び半導体光触媒及び酸化状態から還元状態に変化させることができるヨウ素化合物を含む水溶液に、光照射を行って酸素を製造する工程からなることを特徴とする水素及び酸素の製造方法。
IPC (7件)：
C01B3/04 ,  B01J23/42 ,  B01J23/58 ,  B01J23/652 ,  B01J35/02 ,  C01B13/02 ,  C25B1/24
FI (7件)：
C01B3/04 A ,  B01J23/42 M ,  B01J23/58 M ,  B01J35/02 J ,  C01B13/02 B ,  C25B1/24 C ,  B01J23/64 103M
Fターム (48件)：
4G042BA08 ,  4G042BB04 ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04B ,  4G069BB06B ,  4G069BC12B ,  4G069BC17A ,  4G069BC18A ,  4G069BC22A ,  4G069BC25A ,  4G069BC31A ,  4G069BC32A ,  4G069BC33A ,  4G069BC35A ,  4G069BC36A ,  4G069BC50A ,  4G069BC51A ,  4G069BC54A ,  4G069BC55A ,  4G069BC56A ,  4G069BC56B ,  4G069BC58A ,  4G069BC58B ,  4G069BC59A ,  4G069BC60A ,  4G069BC60B ,  4G069BC62A ,  4G069BC66A ,  4G069BC67A ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069CC33 ,  4G069DA08 ,  4G069EC22Y ,  4G069FA02 ,  4G069FB21 ,  4K021AB11 ,  4K021BA01 ,  4K021BC02 ,  4K021CA06 ,  4K021CA10 ,  4K021DB05 ,  4K021DB31 ,  4K021DC03
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (1件)
  • 特許第3793800号

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