特許
J-GLOBAL ID:200903089461583276
シロキサン系ポリマを用いた光導波路の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-042520
公開番号(公開出願番号):特開平9-236719
出願日: 1996年02月29日
公開日(公表日): 1997年09月09日
要約:
【要約】【課題】 シロキサン系ポリマ膜から成る光導波路を作製するに当たって、屈折率を容易にかつきめ細かく制御することが困難であった。【解決手段】 金属アルコキシドを添加したシロキサン系ポリマ膜形成用溶液を用い、基板上で熱重合させて金属含有シロキサン系ポリマ膜から成る光導波路を形成する。これにより、屈折率を容易にかつきめ細かく制御でき、膜の平坦性・基板との密着性・半田耐熱性に優れた光導波路を簡単な設備で短時間に作製できる。
請求項(抜粋):
金属アルコキシドを添加したシロキサン系ポリマ膜形成用溶液を基板上で熱重合させて金属含有シロキサン系ポリマ膜から成る光導波路を形成することを特徴とするシロキサン系ポリマを用いた光導波路の製造方法。
IPC (4件):
G02B 6/13
, C08G 77/04 NUA
, C09D183/04 PMT
, G02B 6/12
FI (4件):
G02B 6/12 M
, C08G 77/04 NUA
, C09D183/04 PMT
, G02B 6/12 N
引用特許: