特許

J-GLOBAL ID：200903089462830919

溶解Ruスパッタリングターゲットの製造方法

発明者： 森 暁 ,  内山 直樹
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-142676
公開番号（公開出願番号）：特開平8-311641
出願日： 1995年05月17日
公開日（公表日）： 1996年11月26日
要約：

【要約】【目的】 内部にボイドのない高純度溶解Ruスパッタリングターゲットの製造方法を提供する。【構成】 Ru粉末に、アルカリ金属、アルカリ土類金属、Al,Ti,Siの内の1種または2種以上を0.05〜5重量%添加混合し、ホットプレスしてホットプレス成形体を作製し、このホットプレス成形体の表面から電子ビームまたはアークを当てて裏面にホットプレス成形体の未溶解層が残留するように溶解し、次にこのホットプレス成形体を裏返して裏面を溶解し、これを複数回繰り返すことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

Ru粉末に、アルカリ金属、アルカリ土類金属、Al,Ti,Siの内の1種または2種以上を0.05〜5重量%添加し、混合し、ホットプレスして得られたホットプレス成形体の表面を電子ビーム溶解またはアーク溶解し、ホットプレス成形体の表裏をひっくり返したのち、再びホットプレス成形体の裏面を電子ビーム溶解またはアーク溶解することを特徴とする溶解Ruスパッタリングターゲットの製造方法。