特許

J-GLOBAL ID：200903089465431268

マクロ検査方法

発明者： 重山 吉偉
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 小池 隆彌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-143607
公開番号（公開出願番号）：特開平11-339040
出願日： 1998年05月26日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：

【要約】【課題】 簡単な処理で正確にマクロ異常を検出できるマクロ検査方法を提供することを目的とする。【解決手段】 まず、半導体ウェハを撮像して撮像画像を入力する(ステップ11)。その撮像画像を2次元フーリエ変換を施し、そのパワースペクトラムからパターンセル及びノイズに対応する周波数成分を除去した後、2次元逆フーリエ変換により前処理画像を生成する(ステップ12)。上記前処理画像から多段階解像度画像を作成し、各画像に対してレンジフィルタ処理,2値化処理を施すことで濃淡ムラを抽出する(ステップ13)。

請求項（抜粋）：

被検査物の撮像データを用いて、該被検査物のマクロ異常を検出するマクロ検査方法において、前記撮像データからフーリエ変換によって原画像のパワースペクトラムを求める第1ステップと、該パワースペクトラムから前記被検査物における周期パターン成分を除去する第2ステップと、該周期パターン成分除去後のパワースペクトラムに逆フーリエ変換を施すことで前処理画像を求める第3ステップと、該前処理画像の濃淡の分布に基づき、マクロ異常を検出する第4ステップと、を含むことを特徴とするマクロ検査方法。

IPC (4件)：

G06T 7/00 ,  G01B 11/00 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G06F 15/62 405 A ,  G01B 11/00 H ,  G01N 21/88 E ,  H01L 21/66 A