特許

J-GLOBAL ID：200903089466168218

乾燥装置

発明者： 吉 羽 洋 ,  津 田 武 明
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-356470
公開番号（公開出願番号）：特開2002-162162
出願日： 2000年11月22日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：

【要約】【課題】 基材に設けられた塗膜の性質を劣化させたり赤外線ヒータの温度低下を招くことのない赤外線乾燥装置を提供する。【解決手段】 赤外線乾燥装置10は塗膜が形成された基材15が走行するとともに、第1乾燥ゾーン10aと第2乾燥ゾーン10bとに仕切られた乾燥炉11と、乾燥炉11の第1乾燥ゾーン10a内の基材15上方に設けられた赤外線ヒータ16とを備えている。赤外線ヒータ16の上方に給気装置18と排気装置19が設けられ、給気装置18と排気装置19によって赤外線ヒータ16上方に、赤外線ヒータ16と、平行な空気流が形成される。基材15は予熱部30のホットプレート31上で予熱され、基材15の塗膜表面から除去された蒸発溶剤は排気機構32により排気される。基材15はその後、第1乾燥ゾーン10a内で赤外線ヒータ16により加熱されて基材15に対して恒率乾燥が行なわれ、次に第2乾燥ゾーン10b内で、熱風吹付装置26からの熱風により更に加熱され減率乾燥が行なわれる。

請求項（抜粋）：

塗膜が形成された基材が内部を走行するとともに、この内部が走行する基材の上流側から順に第1乾燥ゾーンと、第2乾燥ゾーンとに仕切られた乾燥炉と、乾燥炉の入口側に設けられ、基材を載置して加熱するホットプレートを有する予熱部と、第1乾燥ゾーン内に設けられた第1乾燥機構と、第2乾燥ゾーン内に設けられた第2乾燥機構とを備えたことを特徴とする乾燥装置。

IPC (6件)：

F26B 15/12 ,  B05D 3/02 ,  F26B 3/04 ,  F26B 3/20 ,  F26B 3/30 ,  F26B 21/00

FI (6件)：

F26B 15/12 A ,  B05D 3/02 E ,  F26B 3/04 ,  F26B 3/20 ,  F26B 3/30 ,  F26B 21/00 B

Fターム (21件)：

3L113AA02 ,  3L113AA03 ,  3L113AB02 ,  3L113AB05 ,  3L113AB06 ,  3L113AC08 ,  3L113AC10 ,  3L113AC31 ,  3L113AC45 ,  3L113AC46 ,  3L113AC48 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34 ,  3L113CB05 ,  3L113CB06 ,  3L113CB21 ,  3L113DA10 ,  3L113DA24 ,  4D075BB24Y ,  4D075BB37Y ,  4D075DB13

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 導電ペーストの乾燥方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-101866   出願人：株式会社フジクラ
• 特開平3-054560
  
• 特開昭58-047979
  
• 特開昭61-059831