特許
J-GLOBAL ID:200903089487414570
高屈折率層パターンの形成方法及びこの方法により作製された回折構造形成体、並びにこれを貼付した媒体
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-234043
公開番号(公開出願番号):特開2002-049294
出願日: 2000年08月02日
公開日(公表日): 2002年02月15日
要約:
【要約】【課題】印刷により高屈折率層パターンを形成することにより、基材の劣化や変化が少なく、基材への密着性に優れた高屈折率層パターンを効率よく形成する方法を提供するとともに、該高屈折率層パターンを用いた回折構造形成体を提供する。【解決手段】基材樹脂表面に設けられた回折構造の微細凹凸パターンを有する回折構造形成層13と、該微細凹凸パターン表面に形成された透明反射層パターンを有する回折構造形成体において、該透明反射層パターンが印刷方法を用いて形成した高屈折率層パターン14よりなることを特徴とする回折構造形成体。
請求項(抜粋):
パターン状の高屈折率層の形成に印刷方式を用いたことを特徴とする高屈折率層パターンの形成方法。
IPC (6件):
G03H 1/18
, B41M 3/00
, B42D 15/10 501
, B42D 15/10
, G02B 5/18
, G02B 5/32
FI (6件):
G03H 1/18
, B41M 3/00 A
, B42D 15/10 501 P
, B42D 15/10 501 G
, G02B 5/18
, G02B 5/32
Fターム (28件):
2C005HA01
, 2C005JB08
, 2C005JB09
, 2H049AA07
, 2H049AA31
, 2H049AA40
, 2H049AA43
, 2H049AA44
, 2H049AA65
, 2H049CA09
, 2H049CA15
, 2H049CA22
, 2H049CA28
, 2H113AA01
, 2H113AA06
, 2H113BA03
, 2H113BB08
, 2H113CA46
, 2H113DA08
, 2H113DA53
, 2H113DA57
, 2H113DA62
, 2H113FA10
, 2H113FA36
, 2K008AA13
, 2K008BB00
, 2K008EE04
, 2K008GG05
引用特許:
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