特許
J-GLOBAL ID：200903089489166484
パターン露光装置用試料台
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 洋介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-053793
公開番号（公開出願番号）：特開平11-251227
出願日： 1998年03月05日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：
【要約】【課題】 マスク上に形成されている回路パターンを試料上に転写する露光装置用試料台において、倍率ずれ測定手段や位置ずれ計測手段の精度が劣化することなく、また、マスク自体あるいはマスク支持基板の破損を招くことなく、さらに、マスクパターンが小さい場合にも、短時間で、試料シリコン基板を伸長あるいは短縮することを図る。【解決手段】 パターン露光装置用試料台は、中央部と周辺部とに分割され、それぞれ、試料シリコン基板21を吸着するチャック機構が設けられている。周辺部の一部あるいはすべてが試料台の中心から周辺に向かう半径方向に移動可能である。
請求項（抜粋）：
マスク上に形成されている回路パターンを試料上に転写する露光装置に使用され、前記試料を搭載する露光装置用試料台であって、前記試料台は、中央部と該中央部を囲む周辺部とに分割されており、前記試料を吸着した状態で、前記周辺部の少なくとも一部を前記試料台の半径方向に移動する手段を備えていることを特徴とするパターン露光装置用試料台。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
, H01L 21/68
H01L 21/30 503 C
, G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/68 P
, H01L 21/30 531 A
