レジスト塗布装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-317239
公開番号（公開出願番号）：特開平10-156261
出願日： 1996年11月28日
公開日（公表日）： 1998年06月16日
要約：

【要約】【課題】レジスト塗布装置内のウェハ近傍の温度、湿度等を正確に管理可能で、レジスト膜の膜厚の均一性を向上させ、レジストの感光感度およびレジストパターンの線幅精度を安定化させることが可能なレジスト塗布装置を提供する。【解決手段】ウェハを基体とする対象物にレジストRを塗布するレジスト塗布装置であって、装置内に所定の温度および湿度に調節した雰囲気を供給可能なサーマルチャンバ28と、ウェハ近傍の雰囲気の温度および湿度を検出する温湿度センサ26と、温湿度センサ26を装置内の任意の位置に移動可能なアーム22とを有するものとした。

請求項（抜粋）：

ウェハを基体とする対象物にレジストを塗布するレジスト塗布装置であって、このレジスト塗布装置内に所定の温度および湿度に調整した雰囲気を供給可能な供給手段と、前記ウェハの近傍の雰囲気の温度および湿度を検出する温湿度検出手段と、前記温湿度検出手段をウェハの近傍の任意の位置に移動可能な移動手段とを有するレジスト塗布装置。

IPC (4件)：

B05C 11/08 , B05D 1/40 , G03F 7/16 502 , H01L 21/027

FI (4件)：

B05C 11/08 , B05D 1/40 A , G03F 7/16 502 , H01L 21/30 564 C

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