特許

J-GLOBAL ID：200903089491974091

蒸着用マスクおよびその製造方法

発明者： 長谷川 勲 ,  宮井 良雄 ,  曽谷 直哉
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 宮園 博一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-228835
公開番号（公開出願番号）：特開2002-220656
出願日： 2001年07月30日
公開日（公表日）： 2002年08月09日
要約：

【要約】【課題】被蒸着基板上に形成される蒸着物の膜厚の不均一を緩和することが可能で、かつ、マスク層の厚みを薄くしてマスク層の非開口部の幅を小さくすることが可能な蒸着用マスクを提供する。【解決手段】単一のシリコン薄膜からなるマスク層1と、そのマスク層1に形成され、蒸着源側に向かって開口幅が広がる形状のマスク開口部3を有するマスクパターン2とを備えている。

請求項（抜粋）：

蒸着材料を被蒸着基板に蒸着する際に用いる蒸着用マスクであって、単一のシリコン薄膜からなるマスク層と、前記単一のシリコン薄膜からなるマスク層に形成され、蒸着源側に向かって開口幅が広がる形状のマスク開口部を有するマスクパターンとを備えた、蒸着用マスク。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (3件)：

C23C 14/24 G ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (14件)：

3K007AB04 ,  3K007AB18 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB14 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04