特許
J-GLOBAL ID:200903089506413083

液相レーザーアブレーション装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 波多野 久 ,  関口 俊三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-317045
公開番号(公開出願番号):特開2006-122845
出願日: 2004年10月29日
公開日(公表日): 2006年05月18日
要約:
【課題】長時間に亘るアブレーション操作を継続した場合においてもアブレーション効率の低下が少なく、良質な微細化粒子を安定した状態で製造できる液相レーザーアブレーション装置を提供する。【解決手段】被微細化成分を含有するターゲット25と、このターゲット25にレーザー光5を照射することによりターゲット成分を原子,分子,イオンまたはクラスター状の微細化粒子として放出するレーザー発振装置4と、上記ターゲット25を液体中に保持する反応容器11とを備え、上記反応容器11は、流通口24を有する仕切り板21によって内部空間がアブレーション室22と回収室23とに仕切られており、上記アブレーション室22内にターゲット25が収容保持されアブレーションによる微細化反応を進行せしめる一方、上記アブレーション室22内での微細化反応によって生じた微細化粒子を含む液体を、仕切り板21の流通口24を介して上記回収室23に導入するように構成したことを特徴とする液相レーザーアブレーション装置である。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
被微細化成分を含有するターゲットと、このターゲットにレーザー光を照射することによりターゲット成分を原子,分子,イオンまたはクラスター状の微細化粒子として放出するレーザー発振装置と、上記ターゲットを液体中に保持する反応容器とを備え、上記反応容器は、流通口を有する仕切り板によって内部空間がアブレーション室と回収室とに仕切られており、上記アブレーション室内にターゲットが収容保持されアブレーションによる微細化反応を進行せしめる一方、上記アブレーション室内での微細化反応によって生じた微細化粒子を含む液体を、仕切り板の流通口を介して上記回収室に導入するように構成したことを特徴とする液相レーザーアブレーション装置。
IPC (2件):
B01J 19/12 ,  B82B 3/00
FI (2件):
B01J19/12 H ,  B82B3/00
Fターム (8件):
4G075AA27 ,  4G075BC10 ,  4G075CA36 ,  4G075CA42 ,  4G075DA02 ,  4G075EB31 ,  4G075EC21 ,  4G075EE13
引用特許:
出願人引用 (1件)

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