特許
J-GLOBAL ID：200903089510437981

ガラス基板表面の平滑化方法

発明者：
杉山 享司

杉山 享司 について

, 
生田 順亮

生田 順亮 について

, 
伊藤 正文

伊藤 正文 について


出願人/特許権者：
旭硝子株式会社

旭硝子株式会社 について


代理人 (2件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-119043
公開番号（公開出願番号）：特開2008-016823
出願日： 2007年04月27日
公開日（公表日）： 2008年01月24日
要約：
【課題】ピットやスクラッチのような凹欠陥を有する基板表面を平滑化する方法の提供。【解決手段】EUVリソグラフィ用反射型マスクブランク用ガラス基板表面を平滑化する方法であって、ガラス基板上に薄膜を形成する工程と、前記ガラス基板上に存在する凹欠陥を検出する工程と、検出された凹欠陥直上の前記薄膜を局所的に加熱することにより若しくは該薄膜を局所的に陽極酸化することにより、前記薄膜を構成する材料に体積増加を伴う化学反応を生じさせる工程と、を含むことを特徴とするガラス基板表面を平滑化する方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
EUVリソグラフィ用反射型マスクブランク用ガラス基板表面を平滑化する方法であって、 ガラス基板上に薄膜を形成する工程と、 前記ガラス基板上に存在する凹欠陥を検出する工程と、 検出された凹欠陥直上の前記薄膜を局所的に加熱することにより、前記薄膜を構成する材料に体積増加を伴う化学反応を生じさせる工程と、を含むことを特徴とするEUVリソグラフィ用反射型マスクブランク用ガラス基板表面を平滑化する方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  C03C 17/245
FI (4件)：
H01L21/30 531M ,  G03F1/16 A ,  C03C17/245 A ,  C03C17/245 Z
Fターム (16件)：
2H095BD04 ,  2H095BD38 ,  2H095BD40 ,  4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AB11 ,  4G059AC03 ,  4G059EA01 ,  4G059EA12 ,  4G059EB01 ,  4G059EB04 ,  5F046AA25 ,  5F046GD10 ,  5F046GD11 ,  5F046GD16 ,  5F046GD20
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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