特許

J-GLOBAL ID：200903089542102817

欠陥の分類方法およびその装置並びに教示用データ作成方法

発明者： 高木 裕治 ,  下田 篤
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-225083
公開番号（公開出願番号）：特開2000-057349
出願日： 1998年08月10日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】半導体ウエハ等上に発生する欠陥の分類方法およびその装置並びに教示用データ作成方法を提供すること。【解決手段】複数の教示用欠陥画像に対して欠陥の種類に対応するカテゴリを付与することにより教示用データを作成し、前記教示用欠陥画像の各々について複数の特徴量を算出し、該算出された多次元の特徴量ベクトル空間における各教示用欠陥画像についての教示点座標の間のユークリッド距離に基づいて教示用欠陥画像とカテゴリとの対応からなる教示用データを診断し、該診断によって修正する必要がある場合には前記教示用データを修正する学習過程と、被検査対象物を撮像して得られた分類対象欠陥画像に対して、前記学習過程で取得された教示用データを元に既知の分類カテゴリに分類可能か否かを判断する。

請求項（抜粋）：

予め複数の教示用欠陥画像に対して、欠陥の種類に対応するカテゴリを付与することによって複数の教示用欠陥画像と欠陥の種類に対応するカテゴリとの対応関係を示す教示用データを学習して取得する学習過程と、被検査対象物を撮像して得られた分類対象欠陥画像に対して、前記学習過程で取得された教示用データを元に分類カテゴリを付与することによって欠陥の種類を分類する分類過程と、該分類過程において分類対象欠陥画像に対して新たな分類カテゴリが付与された場合、該新たな分類カテゴリと該新たな分類カテゴリが付与された分類対象欠陥画像とを元に前記学習過程で取得された教示用データを更新する更新過程とを有することを特徴とする特徴とする欠陥の分類方法。

IPC (3件)：

G06T 7/00 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/66

FI (6件)：

G06F 15/62 405 A ,  G01N 21/88 E ,  G01N 21/88 J ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/66 Z ,  G06F 15/70 465 A

Fターム (39件)：

2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051ED08 ,  2G051ED21 ,  4M106AA01 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106CA70 ,  4M106DH01 ,  4M106DH12 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23 ,  4M106DJ38 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA01 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CC01 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB06 ,  5B057DB09 ,  5B057DC02 ,  5B057DC06 ,  5B057DC22 ,  5B057DC25 ,  5B057DC33 ,  5B057DC36 ,  5B057DC40 ,  5L096AA02 ,  5L096BA03 ,  5L096CA02 ,  5L096FA66 ,  5L096GA51 ,  5L096KA04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 外観検査方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-057781   出願人：日立電子株式会社
• 半導体装置等の製造方法及びその装置並びに検査方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-334606   出願人：株式会社日立製作所