特許
J-GLOBAL ID：200903089546856980
高分子光学材料及びそれを用いた光導波路及びその製造方法
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-166691
公開番号（公開出願番号）：特開平9-325201
出願日： 1996年06月07日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：
【要約】【課題】 耐熱性及び耐湿性に優れた光学材料、それを用いた光導波路、及びその製造方法を提供する。【解決手段】 式(I)、(II)の各単位を構成分とする一般式(化1):-(R1 )(-O1/2 )Si-O-(I)、-(R1 )(Z-)Si-O-(II)の繰り返し単位、及び式(III)、式(IV)を構成分とする一般式(化2):-(R2 )(-O1/2 )Si-O-(III)、-(R2 )(Z-)Si-O-(IV)〔R1 :C6 X5 (X:D又はハロゲン)、R2 :Cn Y2n+1(Y:H、D又はハロゲン)、Z:OH、OCm H2m+1、n:正の整数、m:3以下の整数〕の繰り返し単位からなり、Mw1万以下の共重合体である高分子光学材料。該材料を、熱架橋した材料を用いた光導波路。その製造方法。
請求項（抜粋）：
式(I)、式(II)の各単位を構成分とする下記一般式(化1):【化1】〔式中、R1 はC6 X5 (Xは重水素若しくはハロゲンを表す)で表される重水素化フェニル基又はハロゲン化フェニル基、Zは水酸基若しくはOCm H2m+1(mは3以下の整数)で表されるアルコキシ基である〕で表される繰り返し単位、及び式(III)、式(IV)の各単位を構成分とする下記一般式(化2):【化2】〔式中、R2 はCn Y2n+1(Yは水素、重水素若しくはハロゲン、nは正の整数を表す)で表されるアルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基であり、Zは水酸基若しくはOCm H2m+1(mは3以下の整数)で表されるアルコキシ基である〕で表される繰り返し単位からなり、重量平均分子量が10000以下である共重合体であることを特徴とする高分子光学材料。
IPC (5件)：
G02B 1/04
, C08G 77/04 NUA
, C08G 77/24 NUH
, G02B 6/12
, G02B 6/13
G02B 1/04
, C08G 77/04 NUA
, C08G 77/24 NUH
, G02B 6/12 N
, G02B 6/12 M
