特許
J-GLOBAL ID：200903089556567189
ペリクル及びペリクル装着フォトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-113380
公開番号（公開出願番号）：特開2003-307832
出願日： 2002年04月16日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：
【要約】【課題】ペリクルの有する傾きを低減するペリクル及びペリクル装着フォトマスクを提供することを目的とする。【解決手段】石英ガラス等のペリクルフレーム12と合成石英のペリクル板11とを接着する接着剤24、及びペリクルフレーム12とフォトマスク13とを粘着させる粘着剤25にガラスビーズ等のスペーサ26を混入させた構成とする。
請求項（抜粋）：
枠体形状のペリクルフレームとペリクルフレームの一方の開口部に接着したペリクル板とを備えたペリクルであって、ペリクルフレーム及びペリクル板は石英ガラスからなり、ペリクル板とペリクルフレームとの間にスペーサを含む接着層が介在することを特徴とするペリクル。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/14 J
, H01L 21/30 502 P
2H095BC33
, 2H095BC37
, 2H095BC39
