特許
J-GLOBAL ID:200903089559593091

基板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西教 圭一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-179413
公開番号(公開出願番号):特開平7-036024
出願日: 1993年07月20日
公開日(公表日): 1995年02月07日
要約:
【要約】【目的】 基板表面からのアルカリイオンの拡散がない透光性基板を低コストで製造すること。【構成】 ソーダガラス基板1aの少なくとも一方表面上にAl(i-OC3H7)3 の熱分解によってAl2O3膜1bを基板温度300〜450°C、好ましくは350〜400°Cで成膜した後、O3を1〜15%含むO2ガス雰囲気中、気圧1〜760Torrで10〜60分間熱処理することによって膜厚50〜500nmの膜質のよいAl2O3膜1bを得ることができ、アルカリイオンの拡散がない透光性基板1を安価に製造することができる。
請求項(抜粋):
ガラス基板の少なくとも一方表面上に、原料としてアルミニウムアルコキシドを用いた気相成長法によってAl2O3膜を成膜する工程と、前記Al2O3膜を成膜したガラス基板を、オゾンと酸素との混合ガス雰囲気中で熱処理を行う工程とを含むことを特徴とする基板の製造方法。
IPC (2件):
G02F 1/1333 500 ,  H05B 33/02

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