特許
J-GLOBAL ID:200903089575010586

膜欠陥の修復方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-507465
公開番号(公開出願番号):特表2001-513436
出願日: 1998年08月25日
公開日(公表日): 2001年09月04日
要約:
【要約】本発明は、膜中に見出される少なくとも1つの欠陥を塞栓するための方法であって、希釈濃度の反応性成分を含有する溶液を圧力下で前記膜の表面に適用し、前記成分が前記希釈濃度で低反応速度を有し、他の反応性成分との反応が前記欠陥内での前記成分の高レベルの局所的蓄積および濃縮の結果として誘発されるように、少なくとも1つの反応性成分が十分な時間の間前記欠陥内に少なくとも部分的に閉じ込められ、それにより前記欠陥内に共有結合反応生成物が生成され、したがってそれを恒久的に塞栓する方法を提供する。
請求項(抜粋):
膜中に見出される少なくとも1つの欠陥を塞栓するための方法であって、希釈された濃度の反応性成分を含有する溶液を圧力下で前記膜の表面に適用し、前記成分が前記希釈された濃度で低反応速度を有し、他の反応性成分との反応が前記欠陥内での前記成分の高レベルの局所的蓄積および濃縮の結果として誘発されるように、少なくとも1つの反応性成分が十分な時間にわたり前記欠陥内に少なくとも部分的に閉じ込められ、それにより前記欠陥内に共有結合反応生成物が生成され、したがってそれを恒久的に塞栓することを特徴とする方法。
IPC (3件):
B01D 65/10 ,  B01D 67/00 ,  B01D 69/12
FI (3件):
B01D 65/10 ,  B01D 67/00 ,  B01D 69/12
Fターム (18件):
4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006KE02Q ,  4D006KE02R ,  4D006LA04 ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA25 ,  4D006MC33X ,  4D006MC53 ,  4D006MC54 ,  4D006MC60 ,  4D006MC62 ,  4D006NA46 ,  4D006PB03 ,  4D006PB24 ,  4D006PB55

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