特許
J-GLOBAL ID：200903089580394830
ポリマコア光導波路およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-239747
公開番号（公開出願番号）：特開平7-092337
出願日： 1993年09月27日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：
【要約】【目的】光の伝搬部分であるコア用ポリマ中にクラックのない均一なポリマからなるポリマコア光導波路の提供。【構成】基板と、該基板の表面に形成された屈折率がn<SB>b </SB>で所望厚さのSiOxNyHz膜より成るバッファ層と、該バッファ層の上に形成された屈折率がn<SB>w</SB>(n<SB>w </SB>>n<SB>b </SB>)の略矩形状のポリマ材料より成るコアと、該コア表面を覆うように設けられた屈折率がn<SB>c </SB>(n<SB>c </SB><n<SB>w </SB>)のクラッド層から構成されていることを特徴とするポリマコア光導波路。
請求項（抜粋）：
基板と、該基板の表面に形成された屈折率がn<SB>b </SB>で所望厚さのSiOxNyHz膜より成るバッファ層と、該バッファ層の上に形成された屈折率がn<SB>w </SB>(n<SB>w</SB>>n<SB>b </SB>)の略矩形状のポリマ材料より成るコアと、該コア表面を覆うように設けられた屈折率がn<SB>c </SB>(n<SB>c </SB><n<SB>w </SB>)のクラッド層から構成されていることを特徴とするポリマコア光導波路。
引用特許：
前のページに戻る
