特許

J-GLOBAL ID：200903089598041357

磁気記録装置用潤滑塗布剤と該潤滑剤を使用した潤滑構造

発明者： 蛸島 武広 ,  森 信行 ,  五十嵐 隆治
出願人/特許権者： ノヴァ・サイエンス株式会社
代理人 (1件)： 森 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-239538
公開番号（公開出願番号）：特開2001-067644
出願日： 1999年08月26日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：

【要約】【課題】 ヘッドスライダを最小約1.0〜1.4nm程度まで磁気ディスクに近接させて稼働させる事が出来るような過酷な条件下での摩擦条件に耐えることが出来るような磁気記録装置用潤滑剤の開発にある。【解決手段】 疎水化された単層或いは複層の中空ナノカーボン(6a)が溶媒に分散されている事を特徴とする。

請求項（抜粋）：

疎水性置換基を有する単層或いは複層の中空ナノカーボンが溶媒に分散されている事を特徴とする磁気記録装置用潤滑塗布剤。

IPC (10件)：

G11B 5/725 ,  C10M103/02 ,  C10M105/54 ,  C10M107/38 ,  C10M171/06 ,  G11B 5/187 ,  G11B 5/60 ,  C10N 20:06 ,  C10N 40:18 ,  C10N 50:02

FI (7件)：

G11B 5/725 ,  C10M103/02 Z ,  C10M105/54 ,  C10M107/38 ,  C10M171/06 ,  G11B 5/187 K ,  G11B 5/60 Z

Fターム (19件)：

4H104AA04A ,  4H104BD05A ,  4H104CD04A ,  4H104EA07A ,  4H104PA16 ,  4H104QA08 ,  5D006AA01 ,  5D006AA02 ,  5D006FA06 ,  5D042NA01 ,  5D042PA10 ,  5D042QA03 ,  5D042RA02 ,  5D042SA02 ,  5D111FF01 ,  5D111FF33 ,  5D111GG09 ,  5D111JJ03 ,  5D111KK08