特許

J-GLOBAL ID：200903089617241087

サーマルヘッドの製造方法

発明者： 本間 克久 ,  柳橋 勝美 ,  荒牧 成光 ,  追留 輝喜
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 大胡 典夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-291024
公開番号（公開出願番号）：特開平6-135035
出願日： 1992年10月29日
公開日（公表日）： 1994年05月17日
要約：

【要約】【目的】 電極膜や下地膜と保護膜との付着力を強くするサーマルヘッドの製造方法を提供すること。【構成】 抵抗膜および電極膜をパターニングし、発熱抵抗体4および電極5、6が形成された表面を、20vol %以下の含水率の酸、または燐酸イオン、珪酸イオン、クロム酸イオンのいずれかを含む酸で処理した後、前記保護膜を形成する。また、前記抵抗膜の一部をハロゲン系ガスを含むガスによりドライエッチングし、その後、下地膜3の表面または表面近くに残存する反応生成物を、酸または温水によるウエット処理で除去する。

請求項（抜粋）：

支持基板上に抵抗膜および電極膜を形成する工程と、前記抵抗膜および電極膜をパターニングし、発熱抵抗体および電極を形成する工程と、前記発熱抵抗体および電極が形成された表面を酸処理する工程と、前記発熱抵抗体および電極の少なくとも一部を被覆するように保護膜を形成する工程とを具備するサーマルヘッドの製造方法において、前記酸処理に用いる酸は、20vol %以下の含水率の酸、または燐酸イオン、珪酸イオン、クロム酸イオンのいずれかを含む酸であることを特徴とするサーマルヘッドの製造方法。

FI (2件)：

B41J 3/20 111 H ,  B41J 3/20 111 F