特許

J-GLOBAL ID：200903089628770243

共役高分子の製造方法

発明者： 浅海 拓 ,  神川 卓
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-328449
公開番号（公開出願番号）：特開2007-023253
出願日： 2005年11月14日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：

【課題】共役高分子を提供すること。【解決手段】A) ホウ素含有官能基を少なくとも2つ有する芳香族モノマーと反応性官能基を少なくとも2つ有する芳香族モノマー、又は、B) 反応性官能基(反応性官能基は、好ましくはハロゲン原子又はスルホン酸エステル基である)及びホウ素含有官能基を同一分子内に有する芳香族モノマーを,有機溶媒、パラジウム錯体及びテトラアルキルアンモニウムハロゲン化物の存在下で反応させることを特徴とする共役高分子の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

A) ホウ素含有官能基を少なくとも2つ有する芳香族モノマーと反応性官能基を少なくとも2つ有する芳香族モノマー、 又は、 B) 反応性官能基及びホウ素含有官能基を同一分子内に有する芳香族モノマーを,有機溶媒、パラジウム錯体及びテトラアルキルアンモニウムハロゲン化物の存在下で反応させることを特徴とする共役高分子の製造方法。

IPC (1件)：

C08G 61/10

FI (1件)：

C08G61/10

Fターム (9件)：

4J032CA03 ,  4J032CA12 ,  4J032CA14 ,  4J032CB01 ,  4J032CB04 ,  4J032CB12 ,  4J032CC01 ,  4J032CD08 ,  4J032CE05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第3310658号