チタノシリケート、その製造方法およびチタノシリケートを用いた酸化化合物の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：石田敬 , 鶴田準一 , 吉井一男 , 西山雅也 , 樋口外治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-036747
公開番号（公開出願番号）：特開2004-292171
出願日： 2003年02月14日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：

【課題】有機化合物の酸化反応の触媒に用いることが可能なチタノシリケート触媒の提供、該触媒の製造方法の提供、および該触媒を用いた酸化反応による酸化化合物の製造方法の提供。【解決手段】脱水状態で測定した赤外吸収スペクトルにおいて、該スペクトルのチャートが930±15cm-1に極大値をもつ吸収帯を有することを特徴とする組成式(1)で表されるチタノシリケートが、酸化化合物製造用触媒として有効であることを見いだした。組成式(1)xTiO2・(1-x)SiO2(式中xは0.0001〜0.2である。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

脱水状態で測定した赤外吸収スペクトルにおいて、該吸光度スペクトルが930±15cm-1に極大値をもつ吸収帯を有することを特徴とする組成式(1)で表されるチタノシリケート。組成式(1) xTiO2・(1-x)SiO2 (式中xは0.0001〜0.2である。)

IPC (5件)：

C01B37/00 , B01J29/89 , C07D301/12 , C07D303/04 , C07D303/14

FI (5件)：

C01B37/00 , B01J29/89 Z , C07D301/12 , C07D303/04 , C07D303/14

Fターム (44件)：

4C048AA01 , 4C048BB02 , 4C048BB07 , 4C048CC01 , 4C048XX05 , 4G069AA02 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA07A , 4G069BA07B , 4G069BC50A , 4G069BC50B , 4G069BC50C , 4G069BD05A , 4G069BD05B , 4G069BD05C , 4G069CB07 , 4G069DA05 , 4G069EA01X , 4G069EA01Y , 4G069ZA22A , 4G069ZA22B , 4G069ZA35A , 4G069ZA35B , 4G069ZA43A , 4G069ZA43B , 4G069ZB06 , 4G069ZB07 , 4G069ZB08 , 4G073BA20 , 4G073BA63 , 4G073BC10 , 4G073BD11 , 4G073CA06 , 4G073CD01 , 4G073FB01 , 4G073FD01 , 4G073FF04 , 4G073GA03 , 4G073GB03 , 4G073UA01 , 4G073UA03 , 4H039CA63 , 4H039CC40

引用特許：

審査官引用 (1件)

酸化化合物製造用結晶性MWW型チタノシリケート触媒、該触媒の製造方法、及び該触媒を用いた酸化化合物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-298133 出願人：昭和電工株式会社

引用文献：

審査官引用 (2件)

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