特許
J-GLOBAL ID：200903089636634669
2次元並びに3次元濃度分布の再構成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-120898
公開番号（公開出願番号）：特開平5-314242
出願日： 1992年05月13日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：
【要約】【構成】 対象の物体と投影にモデルを設定して、標本点と任意点との間の濃度値影響関係及び投影ビームの関係位置に基づく物体投影モデル行列を算出し、この物体投影モデル行列に対して特異値分解を行ない、再構成の誤差を最小にする擬似逆行列に投影データベクトルを掛けるか、または擬似逆行列の成分で零に近いものを省略することにより投影データの掛ける回数を削減し、モデル再構成に基づいた2次元並びに3次元濃度分布を再構成する。
請求項（抜粋）：
対象の物体と投影にモデルを設定して、標本点と任意点との間の濃度値影響関係及び投影ビームの関係位置に基づく物体投影モデル行列を算出し、この物体投影モデル行列に対して特異値分解を行ない、再構成の誤差を最小にする擬似逆行列をあらかじめ導き、この擬似逆行列に投影データベクトルを掛けるか、または擬似逆行列の成分で零に近いものを省略することにより投影データの掛ける回数を削減することを特徴とする、モデル再構成に基づいた2次元並びに3次元濃度分布の再構成方法。
IPC (3件)：
G06F 15/62 400
, G01N 21/49
, G06F 15/66
