プラズマの電磁波を生成および/または操作する装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-508117
公開番号（公開出願番号）：特表2006-526281
出願日： 2004年05月27日
公開日（公表日）： 2006年11月16日
要約：

本発明は、半導体素子のリソグラフィーによる製造に用いるプラズマの電磁波を生成および/または操作する装置、特に、EUVリソグラフィーに用いるEUV放射線を生成および反射する装置が、装置および/または他の素子の少なくとも1つの表面をプラズマ(3)の電荷担体から遮蔽するように、少なくとも1つの不均一な磁界(11)を生成する磁気手段(10)を備えている。これにより、装置および/または他の素子の寿命が長くなる。

請求項（抜粋）：

半導体素子のリソグラフィーによる製造に用いるプラズマの電磁波を生成および/または操作する装置、特に、EUVリソグラフィーに用いるEUV放射線を生成および反射する装置であって、装置(1;5;12)および/または他の素子(5;12)の少なくとも1つの表面をプラズマ(3)の電荷担体から遮蔽するように、少なくとも1つの不均一な磁界(11)を生成する磁気手段(10)を備えていることを特徴とする装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , G21K 1/00 , G21K 5/02

FI (6件)：

H01L21/30 531S , G03F7/20 521 , H01L21/30 531A , G21K1/00 E , G21K1/00 A , G21K5/02 X

Fターム (4件)：

5F046GA20 , 5F046GB01 , 5F046GB09 , 5F046GC03

引用特許：

審査官引用 (7件)

極紫外線光源
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-584754 出願人：サイマーインコーポレイテッド
ブラストシールドを備えるプラズマフォーカス高エネルギフォトン源
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-118724 出願人：サイマーインコーポレイテッド
露光方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-157635 出願人：株式会社ニコン

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