特許
J-GLOBAL ID：200903089649654642
電子ビーム描画方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北野 好人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-059923
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267139
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】本発明は、電子ビーム露光の際の発熱の影響、特に近接効果を除去し、描画パターンの精度を向上させることができる電子ビーム描画方法を提供することを目的とする。【構成】図1(a)の描画したいパターンをチェッカー状に分割する。分割した露光パターンを図1(b-1)の斜線部に示すように離散的に照射する。同様に、図1(b-2)の斜線部に示すように離散的に照射し、更に続いて図1(b-3)、(b-4)の斜線部に示すように順番に離散的に照射していく。こうして隣接した露光パターンを連続的に照射することなく、常に飛び飛びに一定の間隔を空けて離散的に照射する分割露光により、図1(a)に示す描画パターンを形成する。
請求項（抜粋）：
電子ビーム露光によりサブフィールド内に所定のパターンを描画する電子ビーム描画方法において、前記所定のパターンを複数の露光パターンに分割し、前記複数の露光パターンを離散的に露光して、前記所定のパターンを描画することを特徴とする電子ビーム描画方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
