特許
J-GLOBAL ID：200903089656416790

研磨液組成物

発明者：
平 幸治

平 幸治 について

, 
萩原 敏也

萩原 敏也 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (1件)： 細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-051935
公開番号（公開出願番号）：特開平11-246847
出願日： 1998年03月04日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：
【要約】【課題】被研磨物の表面にスクラッチやピット等の欠陥を生じさせずに、表面粗さを低減し得る研磨液組成物を提供すること。【解決手段】(A)式(I): R1 -〔O(AO)n X 〕m (I)〔R1 は鎖状の炭素数3〜500 のm価の多価アルコール残基、AOは炭素数2〜4のオキシアルキレン基、Xは水素原子、炭素数1〜24の炭化水素基又は炭素数1〜24のアシル基、mは3〜200 の整数、nは0〜200 の整数、n個のAOは同一又は異っていてもよく、m個のn及びm個のXは同一又は異っていてもよい。m個のnがすべて0の時、m個のXは同時に水素原子ではない〕で表される化合物、(B)研磨材及び(C)水を含有する研磨液組成物。
請求項（抜粋）：
(A)式(I): R1 -〔O(AO)n X 〕m (I)〔式中、R1 は鎖状の炭素数3〜500 のm価の多価アルコール残基、AOは炭素数2〜4のオキシアルキレン基、Xは水素原子、炭素数1〜24の炭化水素基又は炭素数1〜24のアシル基、mは3〜200 の整数、nは0〜200 の整数を示し、n個のAOは同一であっても異なっていてもよく、m個のn及びm個のXはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。但し、m個のnがすべて0の時、m個のXは同時に水素原子ではない〕で表される化合物、(B)研磨材及び(C)水を含有することを特徴とする研磨液組成物。
IPC (2件)：
C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14
FI (3件)：
C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 K ,  C09K 3/14 550 M
引用特許：
審査官引用 (4件)
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