真空チャンバ

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：原謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-157305
公開番号（公開出願番号）：特開平7-019340
出願日： 1993年06月28日
公開日（公表日）： 1995年01月20日
要約：

【要約】【構成】エアロック扉4により、ウェーハ2をイオン注入面を下側にしたまま保持してエアロック室3まで搬送する。エアロック扉4がエアロック室3を閉じるとともにウェーハ2をプラテン5に受け渡すと、エアロック室3内が排気されて真空になる。そして、プラテン5がウェーハ2を固定保持した状態でプラテン駆動機構6により駆動されて垂直に立ち上がる。ウェーハ2に対するイオンビームの照射が終了すると、上記と逆の動作でウェーハ2をエアロック室3に戻す。【効果】プラテン5がチャンバ本体1内でウェーハ2を搬送するとともに、エアロック室3の内側扉を兼ねることにより、真空チャンバの小型化を図ることができる。また、プラテン5がウェーハ2を固定するので、ウェーハ2の擦れによるパーティクル等の発生がなくなり、ウェーハ2の処理面の汚染を減少させることができる。

請求項（抜粋）：

チャンバ内外に通じるエアロック室と、半導体基板を固定保持するとともにエアロック室をチャンバ内側から開閉するプラテンと、プラテンを上記の閉鎖位置と半導体基板の処理位置との間で移動させるプラテン駆動機構とを備えていることを特徴とする真空チャンバ。

IPC (4件)：

F16J 12/00 , F16J 13/16 , H01L 21/265 , H01L 21/68

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭58-140961
特開昭58-140961

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