特許
J-GLOBAL ID：200903089664665561
ポリシロキサン-芳香族ポリアミド系共重合体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-141231
公開番号（公開出願番号）：特開平6-329791
出願日： 1993年05月21日
公開日（公表日）： 1994年11月29日
要約：
【要約】【目的】 簡便な方法でポリシロキサン-芳香族ポリアミドブロック共重合体を製造する。【構成】 イソフタル酸などのジカルボン酸を過剰量の芳香族ジアミンと反応させ、生成する両末端にアミノアリール基を有するポリアミドオリゴマーを両末端にカルボキシル基を有するポリシロキサンと重縮合させ、この重縮合反応を亜リン酸トリフェニルの存在下に、アミド系溶剤とピリジン系溶剤の割合が10/1〜1/5(容量比)の混合溶剤中で行うことによるポリシロキサン-芳香族ポリアミドブロック共重合体の製法。
請求項（抜粋）：
両末端にアミノアリール基を有するポリアミドと両末端にカルボキシル基を有するポリシロキサンとの重縮合からなる、下記一般式(I)で示されるポリアミド-ポリシロキサンブロック共重合体の亜リン酸エステル触媒による製造方法において、【化1】(式中、Rは二価の有機基を示し、R1 は同一でも異なっていてもよく、珪素原子上の置換基を示しメチル基、エチル基等のアルキル基またはフェニル基、アルキル基換フェニル基等であり、l、m、nは平均重合度を示しており、lは1〜20、mは1〜30、nは1〜100の整数を示し、R2 は二価の有機基を示し、Arは二価の芳香族基であり、フェニレン基または下記一般式で示される構造を有している。尚、Zは-CO-,-S-,-SO2 -,-C(CF3)-,-O-,-CH2 -または-Si(CH3)2 -O-Si(CH3)2 -を示す)【化2】まず、末端にアミノアリール基を有する末端反応性芳香族ポリアミドオリゴマーを調製した後に、末端にカルボキシル基を有する末端反応ポリシロキサン化合物を反応系に添加せしめ、使用される有機溶剤が、アミド系有機溶剤と助触媒兼溶剤として用いられるピリジン系有機溶剤の混合溶剤系であり、アミド系溶剤とピリジン系溶剤の混合比が容量比で、10/1〜1/5であることを特徴とする製造方法。
IPC (3件)：
C08G 69/48 NRH
, C08G 69/42 NSN
, C08G 77/455 NUK
