特許
J-GLOBAL ID:200903089689684560

ポリイミド前駆体およびポリイミド、並びにネガ型感光性材料およびネガ型パターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-327498
公開番号(公開出願番号):特開平7-179604
出願日: 1993年12月24日
公開日(公表日): 1995年07月18日
要約:
【要約】【目的】 低熱線膨張性および低弾性であり、多層基板に用いた場合に層間に応力が残存しにくく、クラックや剥離が生じにくい接着性良好なポリイミド前駆体およびポリイミドを提供し、さらに特定の感光剤を含有させたネガ型感光性材料およびネガ型パターン形成方法を提供する。【構成】 3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸誘導体に、ジアミン成分としてパラフェニレンジアミン誘導体およびフッ素化メチル置換ベンジジンを反応させることによってポリイミド前駆体およびポリイミドを合成する。また、上記ポリイミド前駆体に感光剤として特定の4-(2’-ニトロフェニル)-4-ヒドロピリジン誘導体を含有させた感光性材料は、解像度に優れたネガ型パターンが形成することができる。
請求項(抜粋):
下記一般式(化1)および(化2)にて示される構造単位を有するポリイミド前駆体。【化1】(但し、式中、R1 およびR2 は水素原子または陽イオン、エステル化反応に用いられた有機基で、かつ少なくとも一方は水素原子であり、R3 は芳香族環に結合した低級アルキル基である。また、mは0または4以下の正の整数であり、nは4以下の正の整数である。)【化2】(但し、式中、R1 およびR2 は水素原子または陽イオン、エステル化反応に用いられた有機基で、かつ少なくとも一方は水素原子である。)
IPC (5件):
C08G 73/10 NTF ,  C08K 5/3412 ,  C08L 79/08 LRB ,  G03F 7/004 504 ,  H05K 3/28
引用特許:
審査官引用 (1件)

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