特許

J-GLOBAL ID：200903089695993761

ベースライン補正方法

発明者： 小勝負 純 ,  脇本 範雄 ,  和田 明生
出願人/特許権者： 日本分光株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-238565
公開番号（公開出願番号）：特開2001-059772
出願日： 1999年08月25日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：

【要約】【課題】 本発明の目的は、様々なベースライン形状を持つスペクトルに対して、ベースライン補正をより容易に及び正確に行うことのできるベースライン補正方法を提供することにある。【解決手段】 測定スペクトルデータの局所的な波数領域での各データ値の平均値と分散を計算し、該平均値と分散に基づきベースライン補正のためのフィッティングデータの初期値を、測定スペクトルデータから選択する初期値選択工程(ステップ20〜30)と、一定規範により前記初期値選択工程により得られたフィッティングデータの削除と新たなフィッティングデータの追加の反復を行い、最適なフィッティングデータを得るカーブフィッティング工程(ステップ32〜40)と、前記カーブフィッティング工程により得られたフィッティングデータに基づき試料のみに起因する補正スペクトルデータを得るスペクトル再生工程(ステップ42)と、を備えたことを特徴とするベースライン補正方法。

請求項（抜粋）：

測定スペクトルデータからベースライン変動の影響を除去し、試料のみに起因する補正スペクトルデータを得るベースライン補正方法において、測定スペクトルデータの局所的な波数領域での各データ値の平均値と分散を計算し、該平均値と分散に基づきベースライン補正のためのフィッティングデータの初期値を、前記測定スペクトルデータから選択する初期値選択工程と、一定規範により前記初期値選択工程により得られたフィッティングデータの削除と新たなフィッティングデータの追加の反復を行い、最適なフィッティングデータを得るカーブフィッティング工程と、前記カーブフィッティング工程により得られたフィッティングデータに基づき試料のみに起因する補正スペクトルデータを得るスペクトル再生工程と、を備えたことを特徴とするベースライン補正方法。

IPC (3件)：

G01J 3/02 ,  G01J 3/42 ,  G01N 21/27

FI (3件)：

G01J 3/02 C ,  G01J 3/42 U ,  G01N 21/27 Z

Fターム (27件)：

2G020AA03 ,  2G020BA02 ,  2G020BA03 ,  2G020CA02 ,  2G020CB42 ,  2G020CC22 ,  2G020CC47 ,  2G020CD04 ,  2G020CD13 ,  2G020CD22 ,  2G020CD35 ,  2G020CD37 ,  2G020CD38 ,  2G059AA01 ,  2G059BB08 ,  2G059CC12 ,  2G059EE01 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM03 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10 ,  2G059MM17 ,  2G059NN01