特許

J-GLOBAL ID：200903089710006390

シルセスキオキサンポリマー組成物

発明者： 児玉 和美 ,  杉村 正彦 ,  湯田 英子
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-085521
公開番号（公開出願番号）：特開平6-271772
出願日： 1993年03月19日
公開日（公表日）： 1994年09月27日
要約：

【要約】【目的】 リフロー性に優れ、かつ耐クラック性が良好な絶縁膜を形成することができるシルセスキオキサンポリマー組成物を提供すること。【構成】 一般式(1)【化1】で表される繰り返し単位、及び所望により一般式(2)【化2】で表される繰り返し単位及び/または一般式(3)【化3】で表される繰り返し単位を有し、フッ素含有量0〜20重量%のシルセスキオキサンポリマー組成物であって、重量平均分子量1,500〜1,000,000のシルセスキオキサンポリマー50〜90重量%、及び重量平均分子量400〜1,500のシルセスキオキサンオリゴマー10〜50重量%を含有することを特徴とするシルセスキオキサンポリマー組成物。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】で表される繰り返し単位、及び所望により一般式(2)【化2】で表される繰り返し単位及び/または一般式(3)【化3】で表される繰り返し単位を有し、フッ素含有量0〜20重量%のシルセスキオキサンポリマー組成物であって、重量平均分子量1,500〜1,000,000のシルセスキオキサンポリマー50〜90重量%、及び重量平均分子量400〜1,500のシルセスキオキサンオリゴマー10〜50重量%を含有することを特徴とするシルセスキオキサンポリマー組成物。

IPC (4件)：

C08L 83/05 LRZ ,  C08L 83/08 ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/314