特許
J-GLOBAL ID：200903089730064388
露光マスクの修正方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-271136
公開番号（公開出願番号）：特開平11-109605
出願日： 1997年10月03日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：
【要約】【課題】ハーフトーンマスクの凹欠陥部を修正する。【解決手段】ハーフトーンマスク10は石英ガラス基板11上にシリコン窒化膜12からなるハーフトーン膜が形成されて構成されている。そして、凹欠陥部の石英ガラス基板11上に、炭素化合物膜21とシリコン酸化膜22とが順次積層された多層調整層が形成されている。
請求項（抜粋）：
透光性基板上に、露光光の位相及び透過率を制御するハーフトーン膜が形成された露光マスクに対し、該ハーフトーン膜上の凹欠陥部を修正する露光マスクの修正方法において、前記凹欠陥部に、光学定数が異なる複数の調整層をそれぞれ所定の厚さに形成することを特徴とする露光マスクの修正方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 W
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
