特許

J-GLOBAL ID：200903089730170552

新規な有機ケイ素化合物及びその製造方法並びにその有機ケイ素化合物を用いた静電荷像現像用トナー及び乾式現像剤

発明者： 下田 昌克
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-096551
公開番号（公開出願番号）：特開平10-287683
出願日： 1997年03月31日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】 新規な有機ケイ素化合物、特に静電荷像現像用トナーにおける荷電制御剤として有用な四級アンモニウム塩構造を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法、並びにその有機ケイ素化合物を用いた帯電性、耐吸湿性、経時安定性に優れた静電荷像現像用トナー及び静電荷像現像用乾式現像剤を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)で表される四級アンモニウム塩有機ケイ素化合物。【化1】 [R1R2Si(CH2CH2CH2NMe2R)2]2+2X- (1)

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表されることを特徴とする四級アンモニウム塩有機ケイ素化合物。【化1】 [R1R2Si(CH2CH2CH2NMe2R)2]2+2X- (1)(式中、R1、R2は炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基、置換フェニル基を示し、R3はアルキル基、置換アルキル基、脂環アルキル基、フェニル基、置換フェニル基、ベンジル基、置換ベンジル基を表す。Xはハロゲン原子、ベンゼンスルホネート化合物、ヒドロキシナフタレンスルホネート化合物を表す。)

IPC (3件)：

C07F 7/10 ,  G03G 9/08 ,  G03G 9/10

FI (3件)：

C07F 7/10 C ,  G03G 9/08 365 ,  G03G 9/10