特許

J-GLOBAL ID：200903089741167758

基板処理装置および周辺部材の洗浄方法

発明者： 泉 昭
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 稲岡 耕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-264067
公開番号（公開出願番号）：特開平11-102884
出願日： 1997年09月29日
公開日（公表日）： 1999年04月13日
要約：

【要約】【課題】基板保持手段の周辺に設けられた周辺部材の洗浄を良好に行うこと。【解決手段】ウエハWを保持して回転するスピンチャック1の周囲には、スプラッシュガード8および処理カップ2などの周辺部材が配置されている。これらの周辺部材の洗浄を行う際、処理液ノズルNU,NLからは、周辺部材に付着している汚染物質を洗浄液により洗浄することができる物質に化学変化させるための洗浄補助液が吐出される。したがって、その後に、処理液ノズルNU,NLから洗浄液を吐出させることにより、周辺部材を効果的に洗浄できる。

請求項（抜粋）：

基板保持手段の周辺に設けられた周辺部材と、上記基板保持手段が基板を保持していないときに、上記周辺部材に対して洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、上記周辺部材に付着している汚染物質を上記洗浄液供給手段から供給される洗浄液によって洗浄可能な物質に化学変化させるための洗浄補助液を、上記基板保持手段が基板を保持していないときに、上記周辺部材に供給する洗浄補助液供給手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 351 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 351 S ,  B08B 3/02 F ,  H01L 21/30 564 C

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板処理装置および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-039994   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開昭58-087826