特許
J-GLOBAL ID：200903089753658412
斜め蒸着膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-113444
公開番号（公開出願番号）：特開平9-296265
出願日： 1996年05月08日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：
【要約】【課題】 従来の複屈折板等の光学機能素子の製造では、真空装置の大型化が困難で、作業時間が長時間化する、膜厚が均一化しない、膜特性がロット毎に安定しないという欠点を有する。【解決手段】 蒸着中蒸着源に対し等距離に配置された基板1を蒸着し、蒸着総厚を所望の膜厚より厚く均等に成膜した後、ドライエッチング20によって所望の膜厚に除去せしめる。
請求項（抜粋）：
真空槽に蒸発源と基板とを配置して、蒸発源から飛来する材料を基板表面に斜めに蒸着せしめ、複屈折板を製造する方法に於いて、前記蒸着膜は少なくとも2層よりなり、蒸着中蒸着源に対し等距離に配置された基板を蒸着し、蒸着総厚を所望の膜厚より厚く均等に成膜した後、ドライエッチング法によって所望の膜厚に除去せしめることを特徴とする斜め蒸着膜の製造方法。
IPC (5件)：
C23C 14/08
, C23C 14/50
, C23F 4/00
, G02B 1/10
, G02B 5/30
C23C 14/08 N
, C23C 14/50 G
, C23F 4/00 A
, G02B 5/30
, G02B 1/10 Z
