特許
J-GLOBAL ID:200903089754531157

スロットル装置のシール構造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 落合 健 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-360018
公開番号(公開出願番号):特開平11-193726
出願日: 1997年12月26日
公開日(公表日): 1999年07月21日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】型成形される通路形成体の収縮ひけにもかかわらず、流通抵抗の増大を回避しつつ充分なシール面積を確保可能とする。【解決手段】吸気通路を有して型成形される通路形成体に、吸気通路の一直径線上で該吸気通路の少なくとも一方側に位置する厚肉部が形成され、前記一直径線に直交する軸線を有する弁軸が通路形成体に回動自在に支承され、弁軸に固定されるバタフライ弁の全閉時に弁軸の両側でバタフライ弁12の外周にそれぞれ接触すべく円弧状に形成される一対のシール面が、吸気通路の内面に形成されるスロットル装置のシール構造において、両シール面161 ,162 のうち通路形成体101 の厚肉部10a1 ,10b1 に対応する側のシール面161 ,162 の幅が、弁軸13から最も離れた位置で最大となるが弁軸13に近づくにつれて小さくなるように形成される。
請求項(抜粋):
吸気通路(111 ,112 )を有して型成形される通路形成体(101 ,102 )に、前記吸気通路(111 ,112 )の一直径線(L)上で該吸気通路(111 ,112 )の少なくとも一方側に位置する厚肉部(10a1 ,10b1 ;10a2 ,10b2 )が、前記吸気通路(111 ,112 )の周方向に沿って前記厚肉部(10a1 ,10b1 ;10a2 ,10b2 )以外の部分よりも肉厚を大として形成され、前記一直径線(L)に直交する軸線を有して吸気通路(111 ,112 )を横切る弁軸(13)が前記通路形成体(101 ,102 )に回動自在に支承され、前記弁軸(13)に固定されるバタフライ弁(12)の全閉時に前記弁軸(13)の両側でバタフライ弁(12)の外周にそれぞれ接触すべく円弧状に形成される一対のシール面(161 ,162 )が、前記吸気通路(111 ,112 )の内面に形成されるスロットル装置のシール構造において、前記両シール面(161 ,162 )のうち通路形成体(101 ,102)の前記厚肉部(10a1 ,10b1 ;10a2 ,10b2 )に対応する側のシール面(161 ,162 )の幅が、前記弁軸(13)から最も離れた位置で最大となるが前記弁軸(13)に近づくにつれて小さくなるように形成されることを特徴とするスロットル装置のシール構造。

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