特許
J-GLOBAL ID：200903089759978001
真空排気装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-181886
公開番号（公開出願番号）：特開平5-001664
出願日： 1991年06月25日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：
【要約】【目的】 安定的に効率のよい真空引きを行える真空排気装置を提供する。【構成】 ゲッターポンプ装置4は、蒸着室5と、回転体6と、チタン球8とを備えている。蒸着室5は真空室1に隣接して配置されている。回転体6は、真空室1と蒸着室5との間に、その表面が両室に露出するように回転可能に配置されている。チタン球8は、蒸着室5内に配置され、回転体6に化学的に活性な物質の蒸着膜を形成するための装置である。
請求項（抜粋）：
真空室の真空引きを行う真空排気装置であって、前記真空室に隣接して配置された蒸着室と、前記真空室と蒸着室との間に、その表面が両室に露出するように回転可能に配置された回転体と、前記蒸着室内に配置され、前記回転体に化学的に活性な物質の蒸着膜を形成するための蒸着膜形成装置と、を備えた真空排気装置。
IPC (4件)：
F04B 37/02
, C23C 14/56
, H01L 21/205
, H01L 21/285
