特許
J-GLOBAL ID:200903089776491795
分光測定による特定成分の測定方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2004008711
公開番号(公開出願番号):WO2005-003744
出願日: 2004年06月21日
公開日(公表日): 2005年01月13日
要約:
試料中の特定成分に起因する物質のエネルギー変動により光を生じさせる溶液表面に、測光室内の雰囲気中の電荷が移動することを防止して当該光を測定し、その測定値に基づいて当該特定成分の量を求めることを特徴とする測定方法及びそれに用いられる装置を開示する。 本発明に係る測定方法によれば、分光測定装置を用いて行う試料中の特定成分の測定に於いて、シグナル値の日差変動が起きることや、バックグラウンドが高くなる等の問題を解決し、微量成分を高精度且つ高感度の測定を行うことができる。
請求項(抜粋):
試料中の特定成分に起因する物質のエネルギー変動により光を生じさせる溶液表面に、測光室内の雰囲気中の電荷が移動することを防止して当該光を測定し、その測定値に基づいて当該特定成分の量を求める
ことを特徴とする測定方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (18件):
2G043AA01
, 2G043BA16
, 2G043CA03
, 2G043DA01
, 2G043DA08
, 2G043EA01
, 2G043EA02
, 2G043EA06
, 2G043GA07
, 2G043GB10
, 2G043GB16
, 2G043LA01
, 2G043LA02
, 2G043LA03
, 2G043MA01
, 2G043MA16
, 2G054EA01
, 2G054GA04
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