特許
J-GLOBAL ID：200903089780035800
半導体レーザ装置とレーザ加工機
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-296203
公開番号（公開出願番号）：特開2004-130336
出願日： 2002年10月09日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：
【課題】レーザ装置のシャッタの開閉前後でパワー値の安定したレーザ光を確保するために出力調整可能な半導体レーザ装置を提供する。【解決手段】半導体レーザ手段1よりのレーザ光を被加工物5へ集光する集光手段4の間に遮蔽手段3を設け、遮蔽手段3の反射光9を受光する受光手段6でパワー値を検出し、そのパワー値と指令パワー値の比を補正値として制御手段に7に記憶し、被加工物にレーザ照射時は、補正値によりレーザ光の出力調整をする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
電源部からエネルギーが供給されて指令値のレーザ光を出力する半導体レーザ手段と、前記レーザ光を被加工物へ集光する集光手段と、前記半導体レーザ手段と集光手段との間に設けた前記レーザ光の遮蔽手段と、前記遮蔽手段による反射光を受光する受光手段と、前記被加工物へのレーザ光を制御する制御手段とを有し、前記制御手段は前記受光手段で検出したレーザ光の出力値と前記指令値との比を記憶し、この比によりレーザ光の出力調整を行なう半導体レーザ装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
B23K26/00 N
, B23K26/00 P
, H01S3/00 B
4E068CA02
, 4E068CB01
, 4E068CC01
, 4E068CD10
, 5F072AB13
, 5F072HH02
, 5F072HH03
, 5F072HH08
, 5F072JJ05
, 5F072MM04
, 5F072TT01
, 5F072TT12
, 5F072TT30
, 5F072YY06
