特許

J-GLOBAL ID：200903089783078712

水溶性ルテニウム錯体の合成法

発明者： 藤村 整 ,  伊藤 智行 ,  松崎 徳雄 ,  安宅 喜久雄
出願人/特許権者： 宇部興産株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-183429
公開番号（公開出願番号）：特開2002-003495
出願日： 2000年06月19日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】一般式1の水溶性ルテニウム錯体RuX2(CO)2(PR2R3R4)2 (1)(Xはハロゲン、R2〜R4はC1〜10のアルキル基またはC6〜10のアリール基を表し、R2〜R4の1つ以上はスルホン酸またはカルボン酸のアルカリ金属塩を置換基として有する)の合成にあたり、COを使用せず操作が安全で、一段階で効率的に合成できる方法を開発する。【解決手段】一般式2の疎水性ルテニウム錯体RuX2(CO)2(PR13)2 (2)(Xは前記と同じ、R1はアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す)を含む有機溶媒と一般式3の水溶性3級ホスフィンPR2R3R4 (3)(R2〜R4は前記と同じである)を含むアルキレングリコールモノアルキルエーテル溶媒とを混合し、ホスフィンの配位子交換反応を行う。

請求項（抜粋）：

一般式(1)に示される水溶性ルテニウム錯体【式1】RuX2(CO)2(PR2R3R4)2 (1)(ここで、Xはハロゲン(F、Cl、Br、I)のイオンを表わし、R2、R3、R4は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数6〜10のアリール基を表し、R2、R3、R4のうち少なくとも1つの基はスルホン酸またはカルボン酸のアルカリ金属塩を置換基として有する)を合成するにあたり、一般式(2)に示される疎水性ルテニウム錯体【式2】RuX2(CO)2(PR13)2 (2)(ここでXはハロゲン(F、Cl、Br、I)のイオンを表わし、R1はアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基を示す)を含む有機溶媒 と一般式(3)に示される水溶性3級ホスフィン【式3】PR2R3R4 (3)(ここでR2、R3、R4は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数6〜10のアリール基を表し、R2、R3、R4のうち少なくとも1つの基はスルホン酸またはカルボン酸のアルカリ金属塩を置換基として有する)を含むアルキレングリコールモノアルキルエーテル溶媒とを混合し、ホスフィンの配位子交換反応をおこなうことを特徴とする水溶性ルテニウム錯体の合成法。

IPC (3件)：

C07F 19/00 ,  B01J 31/24 ,  C07F 15/00

FI (3件)：

C07F 19/00 ,  B01J 31/24 Z ,  C07F 15/00 A

Fターム (22件)：

4G069AA08 ,  4G069AA15 ,  4G069BA27A ,  4G069BA27B ,  4G069BC70A ,  4G069BC70B ,  4G069BE10A ,  4G069BE10B ,  4G069BE26A ,  4G069BE26B ,  4G069BE33A ,  4G069BE33B ,  4G069CB02 ,  4H050AA02 ,  4H050AB40 ,  4H050BB10 ,  4H050BB11 ,  4H050BB15 ,  4H050BB17 ,  4H050WB11 ,  4H050WB17 ,  4H050WB21