特許
J-GLOBAL ID：200903089788451098
荷電粒子ビーム照射装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-172970
公開番号（公開出願番号）：特開平6-214100
出願日： 1993年07月13日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：
【要約】【目的】 荷電粒子ビ-ムの照射装置の小型化および構成部品の減少を計り構成が簡略化され信頼性の高い安価な装置を得ること。【構成】 発生装置で発生した荷電粒子ビ-ムの軌道を偏向するとともに偏向前のビ-ム軌道1aを回転軸11に回転して荷電粒子ビ-ムの行き先を周方向で切り替えでき荷電粒子ビ-ムの照射点1bを回転軸11に対し対称位置に設定可能な回転形偏向電磁石13と、回転軸11の周りを回転するとともにタ-ゲット9を照射点1bに固定する照射台14とで構成した。
請求項（抜粋）：
発生装置で発生した荷電粒子ビームの軌道を偏向するとともに偏向前のビーム軌道を回転軸に回転して上記荷電粒子ビームの行き先を周方向で切り替えでき上記荷電粒子ビームの照射点を上記回転軸に対し対称位置に設定可能な回転形偏向電磁石と、上記回転軸の周りを回転するとともにターゲットを上記照射点に固定する照射台とを備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム照射装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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