特許

J-GLOBAL ID：200903089788615511

シラシクロヘキサン化合物、その製造方法及びこれを含有する液晶組成物

発明者： 荻原 勤 ,  清水 孝明 ,  金生 剛 ,  金子 達志 ,  斎藤 隆一 ,  栗原 英志
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： ▲高▼野 俊彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-277074
公開番号（公開出願番号）：特開平7-173176
出願日： 1994年10月17日
公開日（公表日）： 1995年07月11日
要約：

【要約】【目的】 従来の技術である上述のシクロヘキシル環-フェニル環-フェニル環構造(BCH構造)を有する液晶化合物とは全く異なるシラシクロヘキサン環を有する液晶化合物を提供する。【構成】 下記一般式(I)で表されるシラシクロヘキサン化合物。式中において、Rは炭素数1〜10の直鎖状アルキル基、炭素数1〜10のモノ又はジフロロアルキル基、炭素数3〜8の分枝鎖状アルキル基、炭素数2〜7のアルコキシアルキル基又は炭素数2〜8のアルケニル基を表す。は、1又は4位のケイ素がH、F、Cl又はCH3の置換基を持つトランス-1-シラ-1,4-シクロヘキシレン又はトランス-4-シラ-1,4-シクロヘキシレン基を表す。Xは、CN、F、Cl、CF3、CF2Cl,CHFCl、OCF3、OCHF2、OCF2Cl、OCHFCl、R又はOR基(Rは一般式(I)の定義と同一)を表す。Y2及びZはそれぞれ相互に独立してH又はFを表す。Y1はH、F又はClを表す。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表されるシラシクロヘキサン化合物。【化1】式中において、Rは炭素数1〜10の直鎖状アルキル基、炭素数1〜10のモノ又はジフロロアルキル基、炭素数3〜8の分枝鎖状アルキル基、炭素数2〜7のアルコキシアルキル基又は炭素数2〜8のアルケニル基を表す。【化2】は、1又は4位のケイ素がH、F、Cl又はCH3の置換基を持つトランス-1-シラ-1,4-シクロヘキシレン又はトランス-4-シラ-1,4-シクロヘキシレン基を表す。Xは、CN、F、Cl、CF3、CF2Cl,CHFCl、OCF3、OCHF2、OCF2Cl、OCHFCl、R又はOR基(Rは一般式(I)の定義と同一)を表す。Y2及びZはそれぞれ相互に独立してH又はFを表す。Y1はH、F又はClを表す。

IPC (3件)：

C07F 7/08 ,  C09K 19/40 ,  G02F 1/13 500